| BasicModel | RU600TA-X-300 | RU600TA-Y-300 | |
| 行程 | 300mm | 300mm | |
| 定位精度 | 補償后 | ±0.5µm | ±0.5µm |
| 未補償 | ±2.0µm | ±2.0µm | |
| 重復定位精度 | ±0.4µm | ±0.4µm | |
| 直線度 | ±0.38µm | ±0.38µm | |
| 平面度 | ±0.75µm | ±0.75µm | |
| Pitch（俯仰） | ±3arcsec | ±3arcsec | |
| Yaw（偏擺） | ±3arcsec | ±3arcsec | |
| 速度 | 0.7m/s | 0.7m/s | |
| 加速度 | 0.8G（無負載） | 0.8G（無負載） | |
| 負載能力 | 中心 | 40.0kg | 80.0kg |
| 側邊 | 20.0kg | 30.0kg | |
| 供氣壓力 | 0.45~0.55mpa | 0.45~0.55mpa | |
| 驅動 | 直線電機 | 直線電機 | |
| 導軌 | 氣浮導軌 | 氣浮導軌 | |
| 動子質量（無負載） | 10kg | 14.3kg | |
| 自重 | 26kg | 68.2kg | |
| 材料 | 鋁-大理石 | 鋁-大理石 | |
Z軸
| BasicModel | RU600TA-Z-19 |
| Pin桿行程 | 19mm |
| 吸盤直徑 | 12寸 |
| 定位精度 | ±5µm |
| 重復定位精度 | ±3µm |
| 材料 | 鋁 |
氣浮軸承移動臺憑具有無摩擦、高精度、潔凈無污染的特性，廣泛應用于對運動控制要求的領域，尤其在半導體、精密制造、光學檢測等高科技產業中發揮關鍵作用。
1.采用的氣體靜承技術，使運動部件懸浮于氣體薄膜之上，消除固體摩擦帶來的磨損、發熱及振動問題，實現超平穩、無卡頓的運動，極大提升運動精度與穩定性，延長設備使用壽命。
2.高剛度與承載能力：氣浮系統采用磁預載，賦予運動臺出色的剛度，能夠在承受較大負載的同時，保持極小的變形量。
3.配備300mm直徑Wafer Chuck,滿足12寸Wafer裝載，配備頂Pin機構，可實現與機械手的聯動裝載動作。
4.導軌采用優質大理石，提供高剛度、低熱膨脹系數，保證整體平臺可靠性。
?氣浮軸承移動臺技術優勢總結??
| ??特性?? | ?氣浮軸承移動臺 |
| ??摩擦類型?? | 空氣膜懸?。隳Σ粒?/td> |
| ??精度?? | nm級（達0.1nm） |
| ??潔凈度?? | 無油無塵（Class 1標準） |
| ??適用速度?? | 高速（可達2m/s） |
| ??維護成本?? | 僅需潔凈壓縮空氣 |
氣浮軸承移動臺使用場景：
一、半導體制造與檢測??
1.晶圓加工與檢測??
光刻機對準：在EUV光刻機中實現納米級（<5nm）定位，避免機械振動影響圖案精度。
?缺陷檢測：配合AOI（自動光學檢測）系統掃描晶圓表面，檢測28nm以下制程的微觀缺陷。
晶圓傳輸：在Class 1潔凈環境中搬運300mm/450mm晶圓，無顆粒污染風險。
2.封裝??
Chiplet異構集成：支持2.5D/3D封裝中的多芯片高精度對準（±1μm）。
TSV硅通孔檢測：通過氣浮平臺穩定移動，實現垂直通孔的微觀成像。
??二、精密光學與光電領域??
1.光學元件加工??
自由曲面拋光：用于航天級透鏡、AR/VR光學模組的超光滑表面加工（粗糙度<0.1nm）。
離軸拋物面鏡檢測：通過多自由度氣浮臺調整光學路徑，消除裝夾應力。
2.激光系統??
高能激光校準：在慣性約束核聚變（ICF）裝置中精準定位靶材。
光刻機物鏡調校：調節Zeiss/ASML光學模塊的波像差至λ/50（λ=632nm）。
三、生物醫療與納米技術??
1.生命科學儀器??
?冷凍電鏡（Cryo-EM：支撐樣品臺的超低溫（-180℃）無振動環境，分辨率達0.3Å。
?基因測序儀：高通量DNA測序時保持載玻片納米級平穩移動。
2.納米操縱與計量??
原子力顯微鏡（AFM：實現探針的亞埃級（0.1Å）定位掃描。
量子點組裝：在量子計算機研發中精確排布半導體量子點陣列。
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