一、簡介

Lumina AT1光學表面缺陷分析儀可對玻璃、半導體及光電子材料進行的表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料，又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進行檢測，其價格優勢使其成為適合于研發/小批量生產過程中品質管理及良率改善的有力工具。

Lumina AT1結合散射測量、橢圓偏光、反射測量與表面斜率等基本原理，以非破環性方式對Wafer表面的殘留異物，表面與表面下缺陷，形狀變化和薄膜厚度的均勻性進行檢測。

1.偏振通道用于薄膜、劃痕和應力點；

2.坡度通道用于凹坑、凸起；

3.反射通道用于粗糙表面的顆粒；

4.暗場通道用于微粒和劃痕；

Lumina AT1擁有的靈敏度，使用于新產品開發和生產管控，是一套成本效益的解決方案。

二、功能

l  主要功能

1.       缺陷檢測與分類

2.       缺陷分析

3.       薄膜均一性測量

4.       表面粗糙度測量

5.       薄膜應力檢測

l  技術特點

1.透明、半透明和不透明的材料均可測量，比如硅、化合物半導體或金屬基底；

2.實現亞納米的薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點和其他缺陷的全表面掃描和成像；

3.150mm晶圓全表面掃描的掃描時間為3分鐘，50x50mm樣品30秒內可完成掃描并顯示結果；

4.高抗震性能，系統不旋轉，形狀無關，可容納非圓形和易碎的基底材料；

5.高達300x300mm的掃描區域；可定位缺陷，以便進一步分析；技術能力

三、應用案例

1.       透明/非透明材質表面缺陷檢測

2.       MOCVD外延生長成膜缺陷管控

3.       PR膜厚均一性評價

4.       Clean制程清洗效果評價

5.       Wafer在CMP后表面缺陷分析

6.       多個應用領域，如AR/VR、Glass、光掩模版、藍寶石、Si wafer等