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一、簡介

美國Four Dimensions,Inc, 簡稱“4D"，成立于1978年，位于美國加州硅谷的Hayward, 4D公司專注于四探針設(shè)備和汞探針CV測試儀的生產(chǎn)和銷售，累計(jì)銷量達(dá)1000臺以上，遍布世界各大半導(dǎo)體Fab化合物半導(dǎo)體企業(yè)，大學(xué)及科研機(jī)構(gòu)。CVmap系統(tǒng)使用設(shè)計(jì)的汞探頭直接在未金屬化的晶圓上進(jìn)行電容-電壓（CV）和電流-電壓（IV）測量。

二、主要功能

l  技術(shù)規(guī)格

摻雜濃度測試范圍為1E14 – 1E19/cm3。

樣品尺寸：尺寸2~8英寸。

測試點(diǎn)數(shù)：可以滿足200個(gè)點(diǎn)的測試。

用于測試導(dǎo)電襯底、絕緣襯底和高阻襯底的外延的參雜濃度。

探頭為點(diǎn)狀探頭和點(diǎn)環(huán)狀結(jié)構(gòu)。

換汞頻率在半年至一年，依賴于使用的頻率。

三、應(yīng)用

用于測試各類導(dǎo)電襯底、絕緣襯底和高阻襯底的外延的摻雜濃度，是SiC襯底的關(guān)鍵參數(shù)。