-
-
-
-
-
-
大面積 SEM 成像 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2025-02-09 瀏覽次數 18 簡要描述：大面積 SEM 成像通過 CAD 形狀提取在大面積和 3D 中拼接 3D SEM 圖像馬賽克對比
-
-
具有分辨率的直接激光刻錄機 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2025-02-09 瀏覽次數 15 簡要描述：具有分辨率的直接激光刻錄機PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創建高分辨率結構。這款多功能、低維護的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰提供了解決方案。對比
-
Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2025-02-09 瀏覽次數 12 簡要描述：Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam憑借其的聚焦離子束和電子束性能、專有軟件、自動化和易用性特征，重新定義了樣品制備和三維表征的標準。對比
-
-
-
-
超高真空電子束蒸鍍設備 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2025-02-09 瀏覽次數 84 簡要描述：超高真空電子束蒸鍍設備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr，在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環境對于科學研究非常重要，因為實驗通常要求，在整個實驗過程中，表面應保持無污染狀態和使用較低能量的電子和離子的實驗技術的使用，而不會受到氣相散射的過度干擾。對比
-
-
激光 分子束外延系統 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2025-02-09 瀏覽次數 14 簡要描述：激光 分子束外延系統是一種用于物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點和優勢。它能在高真空、真空條件下實現原位實時監控薄膜原子尺度層狀外延生長。這一系統適用于多種有機、無機薄膜的制備，尤其適宜于用其它制膜設備和方法難以制備的高熔點、多元素（特別是含有氣體元素時）、復雜層狀結構的薄膜和超晶格的制備。對比
-
-
-
-
pevcd化學氣相沉積設備均勻可控 用于有機單體聚合成膜 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 56 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
-
電子束光學鍍膜機 氣相沉積鍍膜 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 44 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
-
-
-
聯合鍍膜設備 真空設備廠家銷售 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 65 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
-
-
-
-
-
-
-
pevcd化學氣相沉積專用用于有機單體 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 39 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
-
-
電子束光學鍍膜機 磁控濺射鍍膜 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 31 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
-
成都磁控濺射鍍膜機生產廠家 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 29 產品參數 可以得到一致的膜厚，和的導電噴鍍效果對比
-
-
-
-
-
電子束鍍膜設備 磁控濺射鍍膜 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 28 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
-
臺式化學氣相沉積基底型 用于有機單體聚合成膜 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 26 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
-
PLD設備廠家銷售 售后有保證可提供上門指導安裝使用 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 24 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
-
電子束鍍膜 提供鍍膜服務 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 25 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
-
pevcd化學氣相沉積設備膜致密均勻 用于有機單體聚合成膜 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 29 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
-
-
-
化學氣相沉積膜致密均勻 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 25 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
-
pevcd化學氣相沉積引發式化學氣相沉積 適用范圍廣 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 23 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
-
等離子體增強化學氣相沉積聚合物光電 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 28 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
-
等離子體增強化學氣相沉積膜致密均勻 適用范圍廣 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 25 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
-
pevcd化學氣相沉積聚合物光電 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 25 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
-
電子束鍍膜 氣相沉積鍍膜 參考價 ￥面議
標簽：
品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 20 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
