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化學氣相沉積聚合成膜 適用范圍廣 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 19 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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臺式化學氣相沉積膜致密均勻 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 10 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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電子束光學鍍膜機 熱蒸發/熔煉 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 9 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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小型實驗鍍膜設備 廠家銷售 價格合理 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 7 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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PLD激光鍍膜設備 匯成光學鍍膜機 實驗室研究器材 廠家銷售 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 13 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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pevcd化學氣相沉積聚合成膜 適用范圍廣 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 10 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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鍍膜機器 特點價格合理 性能強 參考價 ￥面議
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pevcd化學氣相沉積設備厚度可控 用于有機單體聚合成膜 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 7 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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桌面級鍍膜設備 實驗室研究器材廠家 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 11 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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桌面級鍍膜設備 價格合理 性能強 實驗室研究器材 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 11 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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電子束鍍膜設備 高純度鍍膜 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 10 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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pevcd化學氣相沉積聚合物薄膜沉積方法 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
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pevcd化學氣相沉積設備專用用于有機單體 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
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電子束鍍膜機器 提供鍍膜服務 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 13 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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臺式化學氣相沉積聚合物薄膜沉積方法 用于有機單體聚合成膜 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 15 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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激光沉積鍍膜設備 百余波長供您選擇實驗室研究器材 廠家銷售 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 11 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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pevcd化學氣相沉積聚合物薄膜沉積方法 適用范圍廣 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 9 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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PLD 真空設備廠家銷售 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 7 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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臺式化學氣相沉積引發式化學氣相沉積 適用范圍廣 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 9 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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廣州小型實驗鍍膜機廠家 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 8 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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光學鍍膜真空鍍膜 超長使用壽命 實驗室研究器材 廠家銷售 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 9 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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磁控濺射 真空設備廠家銷售 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 10 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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化學氣相沉積聚合物光電 適用范圍廣 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 8 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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pevcd化學氣相沉積厚度可控 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
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小型實驗鍍膜機 廠家銷售 價格合理 實驗室研究器材 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 12 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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化學氣相沉積厚度可控 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 11 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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聯合鍍膜設備 真空設備生產廠家 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 9 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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PLD設備廠家銷售 優惠價格可提供上門指導安裝使用 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 9 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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pevcd化學氣相沉積膜致密均勻 用于有機單體聚合成膜 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 10 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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蒸發鍍膜碳化鈦膜料公司 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 8 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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PLD 真空設備生產廠家 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 9 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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聯合鍍膜機器廠家銷售 售后有保證可提供上門指導安裝使用 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 8 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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pevcd化學氣相沉積專用用于有機單體 適用范圍廣 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 13 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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pevcd化學氣相沉積設備引發式化學氣相沉積 用于有機單體聚合成膜 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 11 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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等離子體增強化學氣相沉積膜致密均勻 用于有機單體聚合成膜 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 25 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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臺式化學氣相沉積引發式化學氣相沉積 用于有機單體聚合成膜 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 15 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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pevcd化學氣相沉積膜致密均勻 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 8 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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河源小型鍍膜機器廠家 參考價 ￥面議
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電子束鍍膜設備 熱蒸發/熔煉 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 16 產品參數： 電子束鍍膜設備 主要用途： 用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產對比
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鍍膜機器 廠家銷售 價格合理 實驗室研究器材 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 18 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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pevcd化學氣相沉積聚合成膜 緊湊型實驗室專用 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 7 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
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臺式化學氣相沉積專用用于有機單體 適用范圍廣 參考價 ￥面議
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品牌 型號 SL200L 類型 實驗室真空系統 廠商性質 其他 更新時間 2023-01-24 瀏覽次數 8 1、工作條件 （1）環境溫度：0-40℃對比
