LEEM & PEEM 系統的,致力于材料表面動態變化的研究, 在擁有眾多的客戶。LEEM & PEEM是新材料生長研發觀測的有力工具。
光發射電子顯微鏡PEEM是九十年代左右發展起來的一種新的表面原位技術。它對二維平整樣品表面的局域功函數成象，廣泛應用于原位、動態觀察多相催化反應過程中催化劑表面局域功函數的變化。光發射電子顯微鏡(Photoemission Electron Microscopy, PEEM)是一種新的表面原位技術。在以往的多相催化反應理論研究中，由于各種因素，人們通常采用“黑箱”研究方法，僅僅表征反應前和反應后表面的特征，而不涉及反應發生的過程，因此獲得的信息很難確切反映真實反應條件下表面的性質。zui近的表面反應理論認為：在反應過程中，催化劑表面會出現由于時間－空間自組織現象導致的表面化學波和其它各種時空斑圖，而這些化學波和時空斑圖的存在可能是表面反應得以發生和繼續進行的原動力，這一新的學術思想已當今表面反應研究的前沿。為了進一步探討多相催化反應機理，就必須深入研究催化反應過程中催化劑表面的性質，這就需要一種能在催化反應過程中對催化劑表面進行原位表征的技術，光發射電子顯微鏡能夠勝任這一工作。

光發射電子顯微鏡在多相催化中的應用
PEEM能以高對比度反映催化劑表面局域功函數的微小變化，所以PEEM能夠原位、動態的觀察和記錄化學過程中催化劑表面局域功函數的變化過程。而在多相催化表面反應過程中，反應氣體在催化劑表面的吸附/脫附、擴散和化學反應等都會導致其表面局域功函數的變化，所以PEEM廣泛應用于金屬催化劑表面在反應過程中局域功函數的變化過程及化學波和各種時空斑圖的形成的在線觀察，從而獲得反應過程中吸附質在催化劑表面上的吸附/脫附、擴散及化學反應等動力學過程的信息。

產品特性（PEEM）

① 采用紫外光為激發光源，對表面無損害作用，是一種非破壞性成像方法；

② 能以高對比度反映催化劑表面局域功函數的微小變化；

③ 配置高靈敏度、高分辨率的CCD相機，可以在一定的時間和空間范圍內對表面反應過程進行原位動態觀察；