產品概述
YES TA系列真空固化/蒸氣底漆系統使用六甲基二硅氮烷（HMDS）提供快速，均勻，經濟的底漆，以改善光刻膠的附著力。 這些多功能系統還支持圖像反轉，以與正性抗蝕劑相同的分辨率和易用性形成負性圖像。
有效的光致抗蝕劑附著力構成所有后續處理步驟的基礎，并且只有上底漆的表面才能準確地復制亞微米CD，而不會出現底切或邊緣不整齊的情況。 TA系統的真空固化可使基材脫水，從而使HMDS層具有出色的粘合力，即使暴露在大氣中數周后仍保持穩定。

真空固化/蒸汽灌注與濕灌注：
?化學沉積的均勻性
?接觸角在±3度以內
?防潮表面改性
?流程步驟之間的可用時間增加
?增強的光刻膠附著力
?與濕底漆相比，化學消耗量和化學成本更低
除了硅晶片處理之外，TA系列還可以用于砷化鎵，鈮酸鋰和其他奇特材料的低溫HMDS底涂。
TA系列的優點：
?N 2預熱可防止箱體冷卻。
?過濾機制減少了顆粒物的引入。
?電涌抑制系統可在盒帶裝入期間限制湍流。
?*的控制系統提供用戶可選的溫度，處理時間和腔室尺寸。
?在引入HMDS之前，為了安全起見，四個真空循環清除了O 2。