TRITON SINGLE WAFER PLATFORM

TRITON單晶片平臺

從其創立到2013年交付，Triton平臺被設計為適用于所有單晶圓濕法工藝的穩定但模塊化的主力。

我們工具的模塊化構建使我們的客戶能夠為大規模生產的單過程工具以及瑞士研發或原型工具配置工具，而不會影響性能或可靠性。

構架

在模塊化框架內，我們不斷平臺。

我們的客戶可以選擇為其工具配備高速電鍍系統，以代替傳統的噴泉式電鍍機，或者選擇一個上部腔室，該上部腔室允許在電鍍腔室上方進行預潤濕以及終漂洗/干燥，而無需機械手移動。

靈活性

我們為客戶提供的靈活性?？梢噪S時準備工具來支撐其他腔室和/或容器，因此它會隨著您的工藝需求而增長。我們的模塊化思維使將新開發的腔室添加到具有擴展空間的現有工具中成為可能，從而確保了客戶的投資前景。

TRITON CUSTOMER ADDED VALUES

速度和質量記錄

面向客戶和未來

高度，可滿足客戶需求

每個腔室處理一種以上基板尺寸的可能性極小或無需重新配置

模塊化平臺

升級的新濕法

建立高通量處理室

TRITON HIGHLIGHTS

TRITON的亮點

處理3英寸至450 mm的基板

可以處理兩到三種不同尺寸的基板，而無需進行少的配置或無需重新配置-無需對腔室進行重新鑒定

獲得的高速電鍍技術可提供更高的通量和更好的均勻性-無需改變化學成分

準備好工業 –控制和監視所有過程參數

電鍍均勻度3％或更高

蝕刻均勻度3％或更高

在線加藥系統

在線化學監測

在線氣體檢測以確保安全

多種蝕刻工藝的終點檢測