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Electron Beam Lithography System(EBL)

電子束光刻系統(tǒng)

日本CRESTEC是世界上制造電子束光刻設(shè)備的廠商之一，其制造的電子束光刻機(jī)以其的技術(shù)，的電子束穩(wěn)定性，電子束定位精度以及拼接套刻精度贏得了世界上科研機(jī)構(gòu)以及半導(dǎo)體公司的青睞。其中CABL系列更是世界上的產(chǎn)品之一。

CRESTEC CABL系列采用的恒溫控制系統(tǒng)，使得整個(gè)主系統(tǒng)的溫度保持恒定，再加上主系統(tǒng)內(nèi)部傳感裝置，使得電子束電流穩(wěn)定性，電子束定位穩(wěn)定性，電子束電流分布均一性都得到了極大的提高，其性能指標(biāo)遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其它廠家的同類產(chǎn)品，在長(zhǎng)達(dá)5小時(shí)的時(shí)間內(nèi)，電子束電流和電子束定位非常穩(wěn)定，電子束電流分布也非常均一。

由于EBL刻寫(xiě)精度很高，因此寫(xiě)滿整個(gè)Wafer需要比較長(zhǎng)的時(shí)間，因此電子束電流，電子束定位， 電子束電流分布均一性在長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)的穩(wěn)定性就顯得尤為重要，這對(duì)大范圍內(nèi)的圖形制備非常關(guān)鍵。

CRESTEC CABL系列采用其的技術(shù)使其具有的電子束穩(wěn)定性以及電子束定位精度，在大范圍內(nèi)可以實(shí)現(xiàn)圖形的拼接和套刻。

Stitching accuracy for slant L&S ＜10nm

該圖是在2英寸wafer上，采用50 um的圖案進(jìn)行拼接，寫(xiě)滿整個(gè)片子，其拼接精度低于10nm.（實(shí)驗(yàn)室數(shù)據(jù)）。

CRESTEC CABL系列還可以加工制備10 nm以下的線條，無(wú)論半導(dǎo)體行業(yè)還是在其它領(lǐng)域

CRESTEC的電子束光刻產(chǎn)品都發(fā)揮了巨大的作用。

主要特點(diǎn)：

1.采用高亮度和高穩(wěn)定性的TFE電子槍

2.電子束偏轉(zhuǎn)控制技術(shù) 3.采用場(chǎng)尺寸調(diào)制技術(shù)，電子束定位分辨率（address size)可達(dá)

4.采用軸對(duì)稱圖形書(shū)寫(xiě)技術(shù)，圖形偏角分辨率可達(dá)

5.應(yīng)用領(lǐng)域，如微納器件加工，Si/GaAs兼容工藝，研究用掩膜制造，納米加工（例如單電子器件、器件制作等），高頻電子器件中的混合光刻（Mix & Match），圖形線寬和圖形位移測(cè)量等。