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PICOSUN原子層沉積系統ALD R-200高級版

（PICOSUN™ ALD R-200 Advanced）

名稱：原子層沉積系統 產地：芬蘭

Picosun簡介

Picosun是yi家公司，Picosun的總部位于芬蘭的Espoo，其生產設施位于芬蘭的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD設備專為高產量和高產量而設計，并且不斷發展以提。Picosun適應性強其客戶包括zui 大的電子制造商，小型的型挑戰者以及的大學。 Picosun的組織機構和種類繁多的ALD解決方案都可以滿足每個客戶的需求。PICOSUN®研發工具具有du特的內置可擴展性，可確保將研究結果平穩過渡到大批量工業制造中，而不會出現技術差距。Picosun的熱情在于。當您想與設備制造商共同創建定制的ALD解決方案，從而引ling行業發展時，Picosun是您的合作伙伴。

PICOSUN™ R系列設備提供高質量ALD薄膜的沉積技術，并在各種各樣的襯底上都表現ji佳的均勻性，包括zui具挑戰性的通孔的、深寬比和顆粒等樣品。我們為液體、氣體和固體化學物提供的更高級的，易更換的前驅源系統，能夠在晶圓、3D樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度zui小的薄膜層。在zui基本的PICOSUN™ R系列配置中可以選擇多個du立的，分離的源入口匹配多種類型的前驅源。PICOSUN™ R系列du特的擴展性使ALD工藝可以從研究環境直接過渡到生產環境的PICOSUN™ P系列ALD系統。由于研發型與生產型PICOSUN™反應腔室核心設計特點都是相同的,這消除了實驗室與制造車間之間的鴻溝。對大學來說,突破的技術轉化到生產中，就會吸引到企業投資。

PICOSUN®R-200高級

PICOSUN®R-200 Advanced ALD系統適用于數十種應用的研發，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對象，例如透鏡，光學器件，珠寶，硬幣和醫療植入物。

群集工具，Picoflow™擴散增強劑，卷對卷室，RGA，UHV兼容性，N2發生器，氣體洗滌器，定制設計，用于惰性裝載的手套箱集成PICOSUN®R-200高級ALD系統是高級ALD研究工具的市場，已有數百個客戶安裝。它已成為驅動的公司和研究機構的工具。

敏捷的設計實現了zui高質量的ALD薄膜沉積以及zui終的系統靈活性，可以滿足未來的需求和應用。的熱壁設計具有du立的入口和儀器，可實現無顆粒工藝，適用于晶圓，3D對象和所有納米級特征上的多種材料。得益于我們Picoflow™技術，即使在zui具挑戰性的通孔，長寬比和納米顆粒樣品上也能實現均勻性。PICOSUN®R-200 Advanced系統配備了功能*且易于更換的液態，氣態和固態化學品前體源。高效且獲得的遠程等離子選件可實現金屬沉積，而沒有短路或等離子損壞的風險。與手套箱，UHV系統，手動和自動裝載機，集群工具，粉末倉，卷對卷倉以及各種原位分析系統集成在yi起，無論您現在或將來的研究領域，都可以高效，靈活地進行研究，并獲得良好的結果稍后。

（*）等離子發生器技術特點：

遠程血漿源安裝到裝載室并與反應室連

出色性能的適用于不同化學性質的藍寶石涂藥器

商用微波等離子體發生器，具有300–3000 W可調功率， GHz頻率

保護氣體在中間空間中流動（無等離子體物質的反向擴散）

在相同的沉積過程中，等離子體和熱ALD循環的可能性，而無需對系統進行硬件更改

技術指標

應用領域

客戶使用PICOSUN™ R系列ALD 設備在150mm和200mm（6"和8"）晶圓上所沉積薄膜厚度均勻性數據。