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對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700

對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。（此愛發(fā)科獨(dú)chuang的NLD技術(shù)設(shè)備可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）

產(chǎn)品特性 / Product characteristics

? 在潔凈房內(nèi)作業(yè)可擴(kuò)張為雙腔。（可選配腔室：NLD、有磁場ICP、CCP或者去膠室）

? NLD為時間空間可控的等離子，因此設(shè)備干法清潔容易。

?腔體維護(hù)簡便。

?從掩模刻蝕到石英、玻璃刻蝕，可提供各類工藝解決方案。

?的半導(dǎo)體技術(shù)研究所會提供萬全的工藝支持體制。

產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application

?光學(xué)器件（折射格子、光波導(dǎo)、光學(xué)開關(guān)等等）、凹凸型微透鏡。

?流體路徑作成或光子學(xué)結(jié)晶。