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干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX

對應LED量產的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源和愛發科獨自開發的星型電極的干法刻蝕設備。

產品特性 / Product characteristics

4inch晶圓可放置7片同時處理，6inch晶圓可實現3片同時處理，小尺寸晶圓方面，2inch晶圓可實現29片、3英寸可對應12片同時處理。

搭載了在化合物半導體領域擁有600臺以上出貨實績的有磁場ICP（ISM）高密度等離子源。

高生產性（比以前提高140%）。

為防止RF投入窗的污染待在了愛發科獨自開發的星型電極。

貫徹Depo對策，實現了維護便利、長期穩定、高信賴性的硬件。

擁有豐富的工藝應用的干法刻蝕技術（GaN藍寶石、各種metal、ITO、SiC、AlN、ZnO、4元系化合物半導體）。

豐富的可選機能。

產品應用 / Product application

對應LED的GaN、藍寶石、各種金屬、ITO等的干法刻蝕設備