高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H
高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高難度刻蝕材料（強電介質層、貴金屬、磁性膜等）的Multi-Chamber型低壓高密度等離子刻蝕設備。
產品特性 / Product characteristics
有磁場ICP（ISM）方式-可產生低圧?高密度plasma、為不揮發性材料加工的設備。
可提供對應從常溫到高溫（400oC）的層積膜整體刻蝕、硬掩膜去除的刻蝕解決方案。
通過從腔體到排氣line、DRP為止的均勻加熱來防止沉積物。
該設備采用可降低養護清洗并抑制partical產生的構造和材料及加熱機構，是在不揮發性材料的刻蝕方面擁有豐富經驗的量產裝置。
實現了長期的再現性、安定性
產品應用 / Product application
FeRAM, MRAM, ReRAM, CBRAM, PcRAM等.
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