光刻機(jī)一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動
A 手動：指的是對準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式，是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準(zhǔn)，對準(zhǔn)精度可想而知不高了；
B 半自動：指的是對準(zhǔn)可以通過電動軸根據(jù)CCD的進(jìn)行調(diào)諧；
C 自動： 指的是 從基板的上載，曝光時(shí)長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機(jī)主要是滿足工廠對于處理量的需要。
技術(shù)數(shù)據(jù)：
曝光源：汞光源/紫外線LED光源
的對齊功能：手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗(yàn)證 ；自動對齊；動態(tài)對齊/自動邊緣對齊
對準(zhǔn)偏移校正算法：通量；
全自動：批生產(chǎn)量：每小時(shí)180片
全自動：吞吐量對齊：每小時(shí)140片晶圓
晶圓直徑（基板尺寸）：高達(dá)200毫米
對齊方式：上側(cè)對齊：≤± µm；底側(cè)對齊：≤±1,0 µm；紅外校準(zhǔn)：≤±2,0 µm /基板材料，具體取決于； 鍵對準(zhǔn)：≤±2,0 µm；NIL對準(zhǔn)：≤± µm
曝光設(shè)定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
楔形補(bǔ)償：全自動-SW控制；
曝光選項(xiàng)：間隔暴露/洪水暴露/扇區(qū)暴露
系統(tǒng)控制，操作系統(tǒng)：Windows；文件共享和備份解決方案/制配方和參數(shù)；多語言用戶GUI和支持：CN，DE，F(xiàn)R，IT，JP，KR；實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問，診斷和故障排除
工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓處理
納米壓印光刻技術(shù)：SmartNIL®；
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