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Centrotherm 小批暈生產(chǎn)用垂直爐管CLV200,科研

CLV200 小批暈生產(chǎn)用垂直爐管

I 適用于砫襯底的半導(dǎo)體集成電路的生產(chǎn)

centrotherm C LV 200 是一個(gè)獨(dú)立的小批量晶圓 生產(chǎn)設(shè)備，能實(shí)現(xiàn)各項(xiàng)熱處理工藝，適用于少量生產(chǎn)及 研發(fā)。

cent rot herm 工藝反應(yīng) 腔體及加熱系統(tǒng)有著的設(shè)計(jì)， 升溫至 11 00 攝氏度。由于一爐尺寸較小（一批至多 50 片晶圓）， CLV 200 爐管能提供 非常靈活的常壓及低壓工藝，降低顧客研發(fā)費(fèi)用。

cent rot herm 的設(shè)計(jì)在高效， 低耗上非常出色， 同時(shí)也具備了生產(chǎn)各種半導(dǎo)體器件的工藝靈活性。

常壓工藝退火

氧化

擴(kuò)散LPCVD PECVD

溫度可達(dá) 11 00° C

凈化間占用面積小 [ m叮

售 批量生產(chǎn) 100 mm 至200 mm 晶圓售 一批可處理 50 片晶圓

售 全自動(dòng) cassette -to-cassette 傳片

centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生長 Activator150

centrotherm Activator 150 高溫爐生產(chǎn)線專為硅-碳化合物（SiC）或鎵-氮化合物（GaN） 設(shè)備的后植入燒結(jié)而設(shè)計(jì)開發(fā)。Activator 150可用于多種類型爐體， 如研發(fā)爐和批量生產(chǎn)爐， 且處理靈活性高。centrotherm的無金屬加熱裝置的設(shè)計(jì)允許處理溫度高達(dá)1850°C同時(shí)縮短了工藝循環(huán)時(shí)間。由于占據(jù)空間小、購置成本低，所以Activator 150可實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)具有成本效益。

特點(diǎn)：

高活化率

表面粗糙程度小

溫度達(dá) 1850°C

批量規(guī)模高達(dá) 50硅片（150mm）

加熱率達(dá) 150 K/min

通過SiH4可實(shí)現(xiàn)硅“過壓