EVG®770 Step-and-Repeat Nanoimprint Lithography System

EVG®770 分步重復納米壓印光刻系統

分步重復納米壓印光刻技術，可進行母版制作

技術數據

EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種允許從50 mm x 50 mm的小模具到300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入相結合，分步重印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括的對準功能，過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。

特征

高效的晶圓級光學微透鏡主制造，直至SmartNIL®的納米結構

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理

技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）100至300毫米

解析度≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準：頂側顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區域：長達50 x 50毫米

自動分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）