Electron Beam Lithography System(EBL)

電子束光刻系統

是世界上制造電子束光刻設備的廠商之一，其制造的電子束光刻機以其的技術，的電子束穩定性，電子束定位精度以及拼接套刻精度。

系列采用的恒溫控制系統，使得整個主系統的溫度保持恒定，再加上主系統內部傳感裝置，使得電子束電流穩定性，電子束定位穩定性，電子束電流分布均一性都得到了極大的提高，其性能指標遠遠高于其它廠家的同類產品，在長達5小時的時間內，電子束電流和電子束定位非常穩定，電子束電流分布也非常均一。

由于EBL刻寫精度很高，因此寫滿整個Wafer需要比較長的時間，因此電子束電流，電子束定位， 電子束電流分布均一性在長時間內的穩定性就顯得尤為重要，這對大范圍內的圖形制備非常關鍵。

系列采用其的技術使其具有的電子束穩定性以及電子束定位精度，在大范圍內可以實現圖形的拼接和套刻。

Stitching accuracy for slant L&S ＜10nm

該圖是在2英寸wafer上，采用50 um的圖案進行拼接，寫滿整個片子，其拼接精度低于10nm.（實驗室數據）。

還可以加工制備10 nm以下的線條，無論半導體行業還是在其它領域

的電子束光刻產品都發揮了巨大的作用。

主要特點：

1.采用高亮度和高穩定性的TFE電子槍

2.電子束偏轉控制技術 3.采用場尺寸調制技術，電子束定位分辨率（address size)可達

4.采用軸對稱圖形書寫技術，圖形偏角分辨率可達

5.應用領域，如微納器件加工，Si/GaAs兼容工藝，研究用掩膜制造，納米加工（例如單電子器件、器件制作等），高頻電子器件中的混合光刻（Mix & Match），圖形線寬和圖形位移測量等。