Centrotherm 臥式熱反應系統-E1200/初步小規模生產的臥式爐-E1550/大批量生產的臥式爐-E2000

E1200臥式熱反應系統

一、 產品簡介

E1200型臥式熱反應系統是由德國centrotherm公司研制的特為研發、小批量生產用熱反應系統。具有小體積、高工藝性能等特點

可用作常壓CVD、LPCVD、PECVD、擴散、氧化、退火等工藝過程，以優良的品質、極小的體積、的特點，特別適合低產量、多工藝適應性加工要求的研發或小批量生產。

二、 工藝特性

常壓工藝

LPCVD工藝

PECVD工藝

三、 產品特性

多可搭配4組石英管或碳化硅管反應爐；

清潔的自動載舟系統；

反應爐獨立控制提供了的小批量或復雜工藝能力；

的水冷卻系統設計反應爐的溫度干擾不耗用潔凈室空氣；

設備參數：

反應爐使用晶片尺寸：150mm（多50片）或200mm（多25片）

加熱系統：3組300mm恒溫區，溫差℃；

溫控范圍：200℃～1300℃；

可處理工藝氣體種類：H2、Ar、N2O、N2、SiH4、NH3、B2H6、PH3、SiH2Cl2；

系統總功率：55kW

電源供給：；

壓縮空氣：600～1000kPa；

冷卻水流量：50～70LPM

排氣能力：400m3/H

E1550-初步小規模生產的臥式爐

centrotherm E1550化系統，支持多種工藝能力，適用于中等生產能力和高工藝性能用戶，是一款安全、可靠、易于維護的臥式擴散爐平臺。該爐可高達4層石英管或SiC工藝管， 其硅片尺寸可達300毫米的。憑借其低維護和運行成本、及占地面積小等優勢， E1550可以生產出成本效益的產品。

特點：

適用于常壓以及LPCVD和PECVD工藝
特殊工藝腔體3或4種版本可供選擇
的冷卻系統:不同爐管之間沒有熱干擾
全自動片架傳送系統
模塊化部件設計，便于在潔凈室安裝調試

E2000-大批量生產的臥式爐

centrotherm 2000專為大批量生產而設計，支持多種工藝能力，適用于大批量生產和高工藝性能的用戶，并具有突出的、占地面積小、低購置成本等優勢。該產品對多種應用要求的高工藝具有的靈活性，并可高達4層石英管或硅片尺寸可達300毫米的SiC工藝管

特點：

適用于常壓以及LPCVD和PECVD工藝
特殊工藝腔體3或4種版本可供選擇
的冷卻系統:不同爐管之間沒有熱干擾
全自動片架傳送系統