EVG610單面/雙面光刻機

一、 簡介

EVG公司成立于1980年，公司總部和制造廠位于奧地利，在美國、日本和中國臺灣設有分公司，并在其他各地設有銷售代理及服務部，產品和服務遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半導體制造設備的供應商，其豐富的產品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統、基片清洗機、基片檢測系統、SOI基片鍵合系統、基片臨時鍵合/分離系統、納米壓印系統。

目前已有數千臺設備安裝在世界各地，被地應用于MEMS微機電系統/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導體器件和功率器件等領域。

EVG610是一款非常靈活的、適用于研發和小批量試產的對準系統，可處理zui大200mm之內的各種規格的晶片。EVG610支持各種標準的光刻工藝，例如：真空、軟、硬接觸和接近曝光；也支持其他應用，如鍵合對準、納米壓印光刻、微接觸印刷等。EVG610系統中的工具更換非常簡便快捷，每次更換都可在幾分鐘之內完成，而不需要的工程人員和培訓，非常適合大學、研究所的科研實驗和小批量生產。

二、應用范圍

EVG光刻機主要應用于半導體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機械系統（MEMS）、硅片凸點、化合物半導體等領域，涵蓋了微納電子領域微米或亞微米級線條器件的圖形光刻應用。

三、主要特點

u 支持背面對準光刻和鍵合對準工藝

u 自動的微米計控制曝光間距

u 自動契型補償系統

u 的全局光強均勻度

u 免維護單獨氣浮工作臺

u zui小化的占地面積

u Windows圖形化用戶界面

u *的多用戶管理（用戶權限、界面語言、菜單和工藝控制）

四、技術參數