這款飛秒激光直寫光刻系統(tǒng),laser lithography system是專業(yè)為微納結構光蝕刻而設計的激光直寫光刻機。飛秒激光直寫光刻系統(tǒng)基于多光子聚合技術（multi photon polymerization, mPP),適合市場上的各種光刻膠（photoresists），能夠以納米精度和分辨率微納加工各種三維結構,是的激光光刻機.
- 激光光刻機3D模型制備
- 直寫光刻機直接激光刻劃
- 激光光刻機整套系統(tǒng)到貨即可使用
- 激光光刻機提供100nm-10um的分辨率
- 直寫光刻機超小尺寸
激光光刻機3D模型的制備
這套三維光刻機由激光微加工系統(tǒng)軟件控制，簡單的3D模型通過這種軟件即可生成，對于比較復雜的3D模型，用戶可以通過Autodesk, AutoCAD等軟件制作，然后導入到三維光刻機的軟件中，這個軟件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D結構的制造。
激光光刻機激光直接讀寫
這套激光光刻機由飛秒激光光源，精密的3軸定位臺和掃描鏡組成。首先，待刻錄的圖形通過激光光刻機精密的激光聚焦系統(tǒng)直接從CAD設計中導入到光刻膠上。聚合物的雙光子或多光子吸收用于形成高質(zhì)量表面的3D結構。<100nm的尺寸可自形成結構，200nm-10um尺寸的結構可以控制并重復，這套激光蝕刻機提供納米尺度分辨率和對聚合物的廣泛選擇，從而可以適合微納光學,微流體,MEMS,功能表面制作等各種應用.
與CAD設計等同的3D結構形成后，未固化的光刻膠剩余物由有機溶劑洗掉,這樣只留下蝕刻的微納結構呈現(xiàn)在基板上。
激光光刻機后續(xù)工序：
在所需的微納結構形成后，它被浸入到幾種不同的溶劑中，以除去蝕刻過程中留下的液態(tài)聚合物。激光光刻機全部過程都是自動化的，重要參數(shù)可以根據(jù)要求而設定：浸入時間,溫度等.對于特殊的樣品或加工對象，可以使用紫外光或干燥機處理。
應用
• Nanophotonic devices (3D photonic crystals)激光光刻機用于納米光子器件（三維光子晶體）
• Microfluidics 三維光刻機用于微流控芯片
• Microoptics (lenses, structures on an optical fiber tip, etc.)三維光刻機用于微光學（光學端面微結構制作）
• Micromechanics 激光光刻機制作機微機械
• Micro-Opto-Electromechanical Systems (MOEMS) 激光蝕刻機制作微型光機電系統(tǒng)
• Biomedicine 激光光刻機,三維光刻機用于生物醫(yī)學
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