自動離子研磨拋光儀是進口自動離子束拋光儀,用于TEM制樣拋光清洗，是非常適合掃描電鏡TEM制樣拋光和聚焦離子束FIB制樣拋光的離子束拋光機和離子束拋光系統(tǒng)，采用技術(shù)的低能離子源和特殊樣品架達到任何需求的制樣質(zhì)量。
自動離子研磨拋光儀特點
自動操作
較后一步，結(jié)果
保護性轉(zhuǎn)運膠囊
具有日立電鏡適配器
在線監(jiān)控和支持
 
自動操作
自動離子束拋光儀高級軟件提供完整的計算機控制和詳細的圖形界面。 所有研磨拋光參數(shù)可以以任意數(shù)量的步進存儲或預(yù)編程。 TEM離子束拋光儀全自動化功能允許以較少的用戶干預(yù)生產(chǎn)高質(zhì)量的樣品。自動穿孔檢測有助于保護樣品免受過度研磨，使制劑安全，方便。
 
“較后一步”
自動離子束拋光儀離子源的優(yōu)異性能提供了有效但非常溫和的清潔能力，以提高已制備的TEM或FIB樣品的質(zhì)量。
該自動離子束拋光儀建議針對用戶尋求較佳效果或有特殊需求的用戶。
 
保護轉(zhuǎn)移膠囊
的功能可以在真空或惰性氣體環(huán)境下轉(zhuǎn)移極敏感的樣品。 轉(zhuǎn)移膠囊提供有效的保護，防止氧氣，蒸汽或其他組分在攜帶時可能破壞或污染樣品表面。
 
掃描電鏡3D適配器
配備有特殊適配器，為您提供快速，簡單，安全的解決方案，將任何樣品轉(zhuǎn)移到日立TEM。 在TEM離子研磨拋光儀和顯微鏡之間轉(zhuǎn)移時，不需要浪費時間和風險，因此可以使用相同的3D樣品架。
 
在線監(jiān)控和支持
提供了在線的軟件擴展，可通過互聯(lián)網(wǎng)實現(xiàn)即時錯誤檢測和程序消除。
 
 
描述
用于制備較高質(zhì)量TEM / FIB樣品的離子束工作站
快速，可靠的TEM和FIB樣品的清洗和后處理方法
與用戶無關(guān)的自動化操作，具有預(yù)編程的配方
適用于工業(yè)環(huán)境
直接應(yīng)用日立FIB-STEM / TEM系統(tǒng)的3D樣品架的特殊模型
T設(shè)計用于較終拋光，易于清潔和改進以前在標準高能離子磨或FIB柱中處理的樣品。給想要準備的用戶溫和磨坊型號
無人工制品
幾乎無損
較佳質(zhì)量的XTEM，HRTEM或STEM樣品。
這些也適用于快速稀釋凹凸或薄（<25μm）的平面機械拋光樣品。
 
的低能源離子源
離子束工作站采用杰出的熱陰極低能量離子源。離子束的極低能量保證較小化表面損傷和離子束誘導(dǎo)的非晶化。離子源的特殊構(gòu)造允許高離子束電流密度。包括加速電壓和陰極電流在內(nèi)的所有離子槍參數(shù)都由數(shù)字反饋回路自動控制，但在樣品制備過程中可以隨時手動更換。離子源參數(shù)的初始值自動或手動設(shè)置，并連續(xù)顯示在計算機屏幕上。
 
無菌樣品制備
在低能量離子轟擊下生產(chǎn)無損傷樣品的專有能力為在技術(shù)科學和材料研究領(lǐng)域的合成和天然材料研究真正的納米結(jié)構(gòu)提供了的機會。
 
自動操作
第三代TEM離子研磨拋光儀使用易于使用的圖形界面提供全面的計算機控制。所有削磨參數(shù)，包括離子源設(shè)置，氣體流量控制，其他削磨參數(shù)的設(shè)置，如樣品運動和傾斜角度，穿孔檢測可以以任意數(shù)量的步驟存儲或預(yù)編程。這種自動化功能允許以較少的用戶干預(yù)產(chǎn)生高質(zhì)量的樣品。 溫和磨機3提供了用于在線支持的軟件擴展，可通過Internet實現(xiàn)即時錯誤檢測和消除問題。
 
轉(zhuǎn)移梭子
將樣品從轉(zhuǎn)移到手套箱的完整解決方案。該轉(zhuǎn)運膠囊可在真空下或通過使用保護性氬氣工作。
 
規(guī)格
低能源（一種固定型）
離子能量：100 - 2000 eV，可連續(xù)調(diào)節(jié)
離子電流密度：較大10 mA / cm2
光束電流：7 - 80 mA，可連續(xù)調(diào)節(jié)
光束直徑：750 - 1200μm（FWHM）
手動（模式IV5）或電子優(yōu)化的工作氣體流量（模塊IV8）
在2000 eV離子能量和30°角光束入射下，c-Si上的28μm/ h研磨速率
樣本階段
銑削角度：0° - 40°，以0.1°增量電子調(diào)節(jié)
計算機控制的平面內(nèi)樣品旋轉(zhuǎn)和振蕩（從+ 10°到+ 60°，以10°步進電子調(diào)節(jié)）
可接受的TEM樣品的厚度范圍（30 - 200μm）
樣本處理
真空加載鎖定系統(tǒng)，用于快速的樣品交換
全機械，無膠水樣品裝載系統(tǒng)
特殊設(shè)計的鈦框架和XTEM樣品的封裝技術(shù)
真空系統(tǒng)
Pfeiffer真空系統(tǒng)帶無油隔膜和渦輪分子泵，配有緊湊型全范圍Pirani / Penning真空計
氣體供應(yīng)系統(tǒng)
99.999％純度的氬氣為1.3 - 1.7 bar壓力
壓力調(diào)節(jié)器，用于帶電子出口壓力監(jiān)測的惰性氣體服務(wù)
通過電動針閥進行高精度工作氣體流量控制。 IV8
成像系統(tǒng)
CMOS相機圖像，用于視覺控制和銑削監(jiān)控/終止
高分辨率彩色CMOS相機
手動變焦視頻鏡頭為50 - 400×放大范圍
電腦控制
內(nèi)置工業(yè)級PC
易于使用的圖形界面和圖像分析模塊
通過鼠標點擊或拖動輕松控制所有重要參數(shù)
用于較小用戶干預(yù)的高度自動化操作系統(tǒng)（模塊IV8）
預(yù)編程或手動設(shè)置銑削和拋光循環(huán)
自動終止：由圖像分析模塊支持的光學終止銑削過程（檢測樣品穿孔或監(jiān)測表面形貌）
電源要求
100 - 120 V / 3.0 A / 60 Hz或220 - 240 V / 1.5 A / 50 Hz - 單相