SRS-500型磁控濺射PVD系統，最多可配備五個獨立濺射靶位，采用渦輪分子泵組和自動壓控系統等配置，適用于沉積各種金屬和反應膜層。可實現單靶直濺和多靶共濺功能。適合快速制備多層金屬、反應化合膜、半導體介質復合膜等，配備精密沉積速率控制系統，非常適合新材料研發和小批量生產使用。主要特點：大抽速真空系統，即插即用快捷方便；最多五個獨立磁控靶位可輕松切換功能，快速制作多種金屬和反應介質膜；預設參數全自動沉積無需人為干預；材料和基板安裝方便實用，單片公轉可沉積φ280的膜片，可實現公自轉載具切換功能。配備射頻源，可實現多種膜層工藝要求。應用領域：金屬和介電膜薄膜傳感器的制造光學元件納米與微電子太陽能電池主要功能配置說明：Φ500mm*420mm(h)圓形不銹鋼腔室（可選玻璃腔室）700L/s渦輪分子泵+雙級旋片泵真空泵組。全量程復合真空計，自動控制不同工藝壓力。電動壓控插板閥全程壓力自動控制。四個獨立2英寸濺射靶+2個熱蒸發源，或5個獨立濺射靶位，可同時濺射多種靶材。配準備DC電源和RF電源更利于濺射多種金屬和介質膜層。MFC精密氣體控