技術數據：

曝光源：汞光源/紫外線LED光源

的對齊功能：手動對準/原位對準驗證 ；自動對齊；動態對齊/自動邊緣對齊

對準偏移校正算法：通量；

全自動：批生產量：每小時180片

全自動：吞吐量對齊：每小時140片晶圓

晶圓直徑（基板尺寸）：高達200毫米

對齊方式：上側對齊：≤± µm；底側對齊：≤±1,0 µm；紅外校準：≤±2,0 µm /基板材料，具體取決于； 鍵對準：≤±2,0 µm；NIL對準：≤± µm

曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

楔形補償：全自動-SW控制；

曝光選項：間隔暴露/洪水暴露/扇區暴露

系統控制，操作系統：Windows；文件共享和備份解決方案/制配方和參數；多語言用戶GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR；實時遠程訪問，診斷和故障排除

工業自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓處理

納米壓印光刻技術：SmartNIL®；