Centrotherm 快速退火爐/快速熱工藝設備- 150/RTP 150

Centrotherm 快速退火爐- 150

一、產品簡介

德國Centrotherm公司是國際主流的半導體設備供應商，尤其在高溫設備領域。Centrotherm 150是一款、多用途的快速退火設備，主要用于滿足研發和小規模量產所需的多種工藝要求。

Centrotherm測溫系統適用于從室溫至高溫的區間。Centrotherm優化的多區溫控系統結合可以獨立控制的加熱燈，提供了控溫精度和控溫重復性。

此款設備配置手動裝載系統，適用于研發以及小型的量產。

成熟的真空操作和氣體管理系統為多種應用提供了可控的氣體環境。性能和高度的靈活性，結合小的占地面積，低的客戶擁有成本，使 150成為一款的手動RTP設備。

二、典型應用

退火：一般退火、接觸層（Contact）退火、源/漏退火、勢壘金屬退火

硅化

氧化

摻雜活化

三、產品特性

可在常壓或者真空（控壓）下工作

高度靈活性：適用于6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盤

升溫速率約150 K/s

溫度均勻性

的環境控制

高的設備可靠性

可以并排安裝

Centrotherm 快速熱工藝設備-RTP 150

一、產品簡介

德國Centrotherm公司是國際主流的半導體設備供應商，尤其在高溫設備領域。Centrotherm RTP 150是一款快速熱工藝設備，主要用于滿足研發和小規模量產所需的多種工藝要求。

RTP 150型快速熱反應設備，采用緊湊型的真空腔室設計滿足多種工藝需要，是一款可用于生產和研發用的單晶圓工藝設備。

RTP 150型設備包括一個帶集成壓力學習控制壓力范圍在1mbar至50mbar的真空腔室。采用燈管加熱系統提供了可調節的加熱均勻性控制，采用了CENTROTHERM公司技術的溫度控制系統。

RTP系統可用于6寸晶圓和5寸石墨基板的加熱。可在15分鐘內更換基板的尺寸和類型。

設備用于、小占地面積、高工藝靈活性的工藝場合。

設備特點：

壓力可控的真空或大氣環境下工作

高靈活性：6寸硅片或其他材料

溫度范圍：20℃~1150℃

不加熱的工藝溫度可達 750℃

升溫速率可達150k/s（即150℃/秒）

每個加熱燈管獨立控制，的溫度均勻性

±℃溫度一致性

長壽命加熱燈管，低維護成本

典型應用：

金屬接觸退火

摻雜物活化

源極/漏極退火

干氧化

薄晶圓退火

設備參數：

應用： 生產或研發

基板材料：硅片、GaAs、石墨、碳化硅、氮化鎵、藍寶石

可選件：

用于溫度曲線調整的溫度測量系統

用于全自動操作的雙機械手臂