多用途的納米光刻系統(tǒng)

eLINE Plus被用于大學和研究中心，該系統(tǒng)有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對電子束光刻機多功能性的要求。

除具有的電子束光刻及成像功能，eLINE Plus還集成了納米操縱設備，如納米探針、用于聚焦電子束誘導過程的氣體注入系統(tǒng)等各種多功能選件，這使得eLINE Plus成為世界上的、用途的電子束光刻系統(tǒng)。

納米工程、納米操縱，及聚焦電子束誘導過程

的熱場發(fā)射電子光學柱，可得到的小束斑尺寸

開放的可升級的平臺理念

的納米加工工藝

多種探測器，可靈活地實現(xiàn)對準標記識別、成像，及材料分析方面的應用

的無寫場拼接的直寫模式（traxx /periodixx）

Raith NanoSuite軟件:集所有模塊于一體的綜合軟件界面

可擴展的科研工具理念

eLINE Plus具有模塊可擴展的科研工具理念，用戶可任意時間升級各種模塊，使該系統(tǒng)適用于納米研究中熱門的研究方向。eLINE Plus從傳統(tǒng)的電子束應用領域，擴展成為多功能的系統(tǒng)，打開了跨學科研究的大門。

eLINE Plus具有的小束斑尺寸（）,在前沿的高分辨納米加工中，不論是納米曝光還是其他聚焦電子束誘導過程中都展現(xiàn)出的性能。