PICOSUN原子層沉積系統ALD R-300 Pro
（PICOSUN™ ALD ALD P-300 Pro）
名稱：原子層沉積系統 產地：芬蘭
Picosun簡介
Picosun是zui家公司，Picosun的總部位于芬蘭的Espoo，其生產設施位于芬蘭的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD設備專為高產量和高產量而設計，并且不斷發展以提。Picosun適應性強其客戶包括zui 大的電子制造商，小型的型挑戰者以及的大學。 Picosun的組織機構和種類繁多的ALD解決方案都可以滿足每個客戶的需求。PICOSUN®研發工具具有的內置可擴展性，可確保將研究結果平穩過渡到大批量工業制造中，而不會出現技術差距。Picosun的熱情在于。當您想與設備制造商共同創建定制的ALD解決方案，從而引ling行業發展時，Picosun是您的合作伙伴。
PICOSUN™ ALD P-300 Pro：Picosun™ 300mm生產線上的產品是300mm以下晶圓的自動化、高產量的工業ALD加工設備。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD設備。該工具可以獨立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系統以達到更高的產量和自動化水平。為了節約昂貴的設施空間，所有PICOSUN™的ALD系統有著緊湊、高效的設計。集成的機柜，裝載著前驅體和電子元件，保證了快速簡便的維護和zui短的停機時間。PICOSUN™ P系列工具保證了zui大產能以及zui節約成本的情況下得到的ALD工藝質量，并履行嚴格的現代半導體產業的生產力和安全要求。
工藝咨詢和開發，產能提升，維護保養流程和系統及工藝的故障排除，我們客戶化定制的PICOSUPPORT™綜合解決方案24小時快速響應，隨時待命。在購買之前，我們的演示服務保證了設備可以滿足客戶zui苛刻的產線需求。
技術指標
襯底尺寸和類型 | zui大300mm晶圓/單片 |
工藝溫度 | 50 - 500 °C |
基片傳送選件 | 半自動裝載，用單片Load lock與磁力操縱桿實現 |
25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 300集群系統實現 | |
標準 | SEMI S2認證 |
前驅體 | 液態，固態，氣態，臭氧源 |
等離子體（僅供200mm晶圓使用，zui多4路氣體） | |
前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務 | |
6條獨立源管線,zui多加載8個前驅體源（zui多12個前驅體源，加上plasma管路共7根獨立源管線） | |
重量 | 820 kg |
尺寸(W x H x D) | 160 cm x 80 cm x 240 cm |
選件 | 集群工具，PICOFLOW™擴散增強，N2發生器，尾氣處理，定制設計，與工廠軟件連接服務。 |
驗收標準 | 標準設備驗收標準為Al2O3工藝， |
其他工藝可具體協商：其他工藝、應用具體驗收標準如： | |
--不均勻性 | |
--顆粒物含量 | |
--重金屬污染 | |
--電學性能 |
應用領域
PICOSUN™ 300 mm 生產線應用案例
集成電路組件 | 微機電系統 |
氧化物間隔層 | 擴散阻擋層 |
間聚介質 | 涂層 |
高K柵介質 | 電荷耗散層 |
隧穿氧化物薄膜 | 導熱層 |
氧化物阻擋層 | 導電種子層 |
鈍化層 | 刻蝕阻擋層 |
間隙填充層 | 電絕緣層 |
覆蓋層 | 防摩擦層 |
銅阻擋層和阻擋層 | 防粘著層 |
粘附層 | 光學薄膜 |
擴散阻擋層 | 生物兼容層 |
點極 | 密封層 |
金屬化 | 納米孔封堵層 |
其他 | 顯示 |
晶體管 | 鈍化 |
電容層 | 透明導電薄膜 |
存儲器 | 絕緣層 |
讀寫磁頭 |
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