技術指標：
· 真空室：內徑500×300 內徑600×350 內徑800×350
1000×120×300mm矩形
· 極限真空：×10-5Pa
磁控靶：2英寸3只；DC與RF兼容
水冷，可根據需要選型
可選擇冷卻、加熱、反濺射清洗、公轉、自轉等功能。樣品加熱溫度可達600°C.
其他選擇增加功能：膜厚測試、反應濺射、離子束增強磁控濺射。
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技術指標：· 真空室：內徑500×300 內徑600×350 內徑800×3501000×120×300mm矩形· 極限真空：6.6×10-5Pa磁控靶：2英寸3只；DC與RF兼容水冷，可根據需要選型可選擇冷卻、加熱、反濺射清洗、公轉、自轉等功能
· 真空室：內徑500×300 內徑600×350 內徑800×350
1000×120×300mm矩形
· 極限真空：×10-5Pa
磁控靶：2英寸3只；DC與RF兼容
水冷，可根據需要選型
可選擇冷卻、加熱、反濺射清洗、公轉、自轉等功能。樣品加熱溫度可達600°C.
其他選擇增加功能：膜厚測試、反應濺射、離子束增強磁控濺射。
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